日本 JEOL JEM-2100PLUS
 1. Accelerating voltage: 80 – 200 kV 
 2. Lamp silk: LaB6 
 3. Resolving power: point image 0.27 nm 
 4. Magnification: 1,000 – 1,000,000 
 5. Image capture: CCD-Camera(Gatan OneView)
 6. EDS (OXFORD X-MAX )
 7. Shot Meister application 拍照優化軟體(JEOL JEM-2100PLUS )

 JEOL JEM-2100PLUS 
費用項目                                                           單價(校內)     / 單價(校外,無合作計劃)
使用元素分析費或冷凍電顯功能                 1500元 (小時) / 暫不開放
未使用元素分析費或冷凍電顯功能             1200元 (小時) / 暫不開放

檢體製備要求：
1.樣品請置於直徑3 mm之銅網上
2.為維持真空度，樣品不得有在電子束照射下會分解、釋放氣體或成為液體之特性。
3.為避免造成損壞，本儀器拒絕受理具強磁性、磁性(如鐵、鈷、鎳等)或易被電磁透鏡吸引的粉末型式樣品或材料。
4.為避免造成損壞，本儀器拒絕受理含有毒性、腐蝕性、揮發性、低熔點之樣品。
5.為避免儀器電腦中毒，請使用光碟燒錄電子檔。
  

 日本 JEOL JEM-1230
 1. Accelerating voltage: 40 – 120 kV 
 2. Lamp silk: LaB6
 3. Resolving power: point image 0.36nm 
 4. Magnification: 1,200 – 600,000 
 5. Image capture: CCD-Camera(Gatan SC1000W) 

JEOL JEM-1230
費用項目 單價(校內) / 單價(校外,無合作計劃)
儀器使用費 300元 (小時) /  600元 (小時) 

檢體製備要求：
1.樣品請置於直徑3 mm之銅網上
2.為維持真空度，樣品不得有在電子束照射下會分解、釋放氣體或成為液體之特性。
3.為避免造成損壞，本儀器拒絕受理具強磁性、磁性(如鐵、鈷、鎳等)或易被電磁透鏡吸引的粉末型式樣品或材料。
4.為避免造成損壞，本儀器拒絕受理含有毒性、腐蝕性、揮發性、低熔點之樣品。
5.為避免儀器電腦中毒，請使用光碟燒錄電子檔。
  

德國 ZEISS LSM780

1. Diode Laser：405 nm 30mW 

2. CW Laser：440 nm 15mW 

3. Multiline Argon-Laser：458/488/514 nm 25mW 

4. DPSS Laser：561 nm 20mW 

5.  HeNe Laser：633 nm 5mW

 收費原則
 ZEISS LSM780
 費用項目 單價(校內) / 單價(校外,無合作計劃)
 儀器使用費 650元 (小時) / 1300元 (小時)

德國 ZEISS LSM510META NLO

1. Mai-Tai HP laser(Spectra-Physics)：690-1020 nm 

2. CW Laser：440 nm 15mW 

3. Multiline Argon-Laser：458/477/488/514 nm 30mW 

4. DPSS Laser：561 nm 10mW 

5.  HeNe Laser：633 nm 5mW
  
  收費原則
  ZEISS LSM510 NLO
  費用項目 單價(校內) / 單價(校外,無合作計劃)
  儀器使用費 500元 (小時) / 1000元 (小時)

日本 HITACHI S-3000N

1.  Accelerating voltage: 0.3 - 30 kV 

2. Lamp silk: Tungsten wire 

3. Resolving power: 3.0 nm 

4. Magnification: 15 – 300,000 

5. Image capture: CCD-Camera 

6. EDS (EMAX Evolution X-Max) 

收費原則
HITACHI S-3000N
費用項目 單價(校內) / 單價(校外,無合作計劃)
儀器使用費 300元 (小時) / 600元 (小時)

 檢體製備要求：
 1.樣品請置於直徑26 mm的鋁台上
 2.為維持真空度，樣品不得有在電子束照射下會分解、釋放氣體或成為液體之特性。
 3.為避免造成損壞，本儀器拒絕受理具強磁性、磁性(如鐵、鈷、鎳等)或易被電磁透鏡吸引的粉末型式樣品或材料。
 4.為避免造成損壞，本儀器拒絕受理含有毒性、腐蝕性、揮發性、低熔點之樣品。
 5.為避免儀器電腦中毒，請使用光碟燒錄電子檔。 

日本 JEOL JSM-7500F

1. Accelerating voltage: 0.3 - 30 kV 

2. Lamp silk: W(310) cold field emission 

3. Resolving power: 1.0 nm 

4. Magnification: 25 – 1,000,000 

5. Image capture: CCD-Camera 

6. EDS (OXFORD INCA X-ACT)
7. Deben Centaurus Backscatter Detector.

收費原則
JEOL JSM-7500F
費用項目:                            單價(校內)     /  單價(校外,無合作計劃)
未使用元素分析功能:        800元 (小時) / 1600元 (小時)
使用元素分析功能:           1000元 (小時) / 2000元 (小時) 

 檢體製備要求：
 1.樣品請置於直徑26 mm的鋁台上
 2.為維持真空度，樣品不得有在電子束照射下會分解、釋放氣體或成為液體之特性。
 3.為避免造成損壞，本儀器拒絕受理具強磁性、磁性(如鐵、鈷、鎳等)或易被電磁透鏡吸引的粉末型式樣品或材料。
 4.為避免造成損壞，本儀器拒絕受理含有毒性、腐蝕性、揮發性、低熔點之樣品。
 5.為避免儀器電腦中毒，請使用光碟燒錄電子檔。 

Nanolive 3D Cell Explorer, Switzerland

a. Illumination Source：Class 1 low power laser;λ=520nm, sample exposure 0.2 mW/mm2

b. Resolution：Δx,y = 200 nm;Δz = 400 nm

c. Field-of-view：90 x 90 x 30 um

d. Objective：Dry objective;60 x magnification / NA 0.8

e. Camera: CMOS Sony IMX174 sensor

 f. Heating and Incubation System

收費原則
3D Cell Explorer
費用項目 單價(校內) / 單價(校外,無合作計劃)
儀器使用費 150元 (小時) / 300元 (小時)
    
註:收費以預約時間算起，不足半小時部份以半小時計，若因前者使用造成延誤則不予列計。 

ZEISS AXIO IMAGER M2, Germany

a. 6-position objective nosepiece HD DIC M27 mot.                  

b. Objective 5X, 10X, 20X, 40X, 63X, 100X.

c. Camera Adapter 60N-C 1" 1x

d. Joystick XY; CAN (D)

e. Mechanical stage 75x50 mot; CAN (D)

f. X-Cite 120LED System with adapter

g. Camera Adapter 60N-C 1" 1x

h. Microscopy Camera Axiocam 512 color (D)

收費原則
ZEISS AXIO IMAGER M2
費用項目 單價(校內) / 單價(校外,無合作計劃)
儀器使用費 150元 (小時) / 300元 (小時)
    
註:收費以預約時間算起，不足半小時部份以半小時計，若因前者使用造成延誤則不予列計。 

ULTRACUT E

ULTRACUT S